Создан проект литографа – но до самого прибора ещё далеко

Российская компания создала проект многолучевого электронного литографа для производства микросхем. В основе технологии лежит мультикатод, формирующий множество электронных лучей одновременно. Это позволяет экспонировать кремниевую пластину за 5–7 минут, что в 3 тыс. раз быстрее традиционных устройств. Разработчики считают, что новый аппарат сможет конкурировать с зарубежными аналогами и укрепить позиции России в микроэлектронике. Однако эксперты предупреждают, что проект находится на ранней стадии, и до создания полноценного прототипа пройдёт много времени.

Итак, как пишут «Известия», российский стартап разработал проект многолучевого электронного литографа — устройства для производства микросхем, способного значительно сократить время экспонирования кремниевых пластин. В основе технологии лежит мультикатод, который формирует множество электронных лучей одновременно — в отличие от традиционных однолучевых литографов.

Проект пока находится на стадии научно-исследовательских работ, и создание прототипа запланировано на следующий этап опытно-конструкторской разработки. Ключевой элемент системы — мультикатод — уже изготовлен и успешно протестирован. Впервые проект был представлен на форуме «Сильные идеи для нового времени».

Главный разработчик проекта, Евгений Гиваргизов, рассказал «Известиям», что команда разработала технологию создания мультикатода и подтвердила её работоспособность на практике. Им удалось создать массивы источников электронных пучков с радиусом закругления вершины 1,5–2 нанометра, что является одним из лучших результатов в мире. Эта технология позволяет генерировать множество лучей одновременно, многократно ускоряя процесс литографии.

По словам Гиваргизова, ключевым преимуществом новой технологии является способ формирования электронных источников. В отличие от зарубежных систем, которые используют сложные схемы расщепления одного луча с множеством зеркал и оптических затворов, российская разработка создает множество независимых источников электронов на единой подложке. Это существенно снижает требования к инженерной инфраструктуре, энергопотреблению и стоимости оборудования.

Команда проекта рассчитывает, что первый опытный образец литографа будет создан примерно через три года. В дальнейшем технология сможет использоваться для производства микросхем с различными технологическими нормами, включая традиционные 350 нм и перспективные процессы с топологией в несколько нанометров. Однако, как отмечает команда, предельное разрешение сегодня определяется характеристиками фоторезистов, а не возможностями источника электронного пучка.

Эксперты считают, что концепция многолучевой электронной литографии может стать важным направлением развития отечественных технологий. Однако до промышленного внедрения проекту предстоит пройти долгий путь.

Сергей Сазонов, эксперт НТИ по микроэлектронике и электронной промышленности, отметил, что технология выглядит перспективной. Если удастся надёжно реализовать мультикатод и обеспечить точное управление множеством лучей, это может значительно ускорить процесс экспонирования и сделать производство более дешёвым и гибким. В долгосрочной перспективе такие решения могут помочь России развивать собственное оборудование и снизить зависимость от импорта. Однако для создания полноценной промышленной альтернативы ведущим мировым системам потребуется много работы.

Сергей Варнавский, специалист инженерно-технической экспертизы, дал более сдержанную оценку. По его словам, проект находится на ранней стадии, и готового литографа пока нет.

— На данный момент у разработчиков есть только технология мультикатода. Пока проект получит финансирование и пройдёт все этапы разработки, мировые технологии могут значительно продвинуться вперёд. Существует риск, что к моменту создания установки она уже будет уступать зарубежным аналогам. Однако в условиях ограниченной конкуренции на российском рынке такая разработка может найти применение у отечественных производителей микроэлектроники и печатных плат, — считает Варнавский.