Не зря «казачков» засылали!
Как утверждает обозреватель «МК» Наталья Веденеева, вернувшиеся в Россию микроэлектронщики обещают разработать технологию мирового уровня: Российский рентгеновский фотолитограф для печати микросхем может появиться уже через 10 лет.
Рентгеновский литограф – аппарат, с помощью которого на кремниевую подложку переносятся микроскопические рисунки элементов транзисторов – будет отличаться от традиционного применяемой в нем длиной световой волны. Если литографы предыдущего поколения работают со светом лазера с длиной волны 350 нм и 192 нм, то технология EUV (Extreme ultraviolet lithography – Технология глубокого ультрафиолета) позволит создавать оборудование, способное работать на длине волны в 13,5 нм (это приравнивается к рентгеновскому излучению) и меньше.
В частности, первый литограф с длиной волны 13,5 нм был несколько лет назад создан в Нидерландах компанией ASML, а в декабре 2025 года агентство «Рейтерс» сообщило, что Китай разработал собственный прототип EUV-системы силами бывших инженеров ASML.
Российские микроэлектронщики тоже обладают знаниями о том, как можно создать рентгеновские литографы для печати более современных микросхем. О проекте, который разворачивается сейчас в НИИ физики микроструктур РАН, сообщил в интервью «МК» академик РАН Евгений Горнев.
По его словам, для создания микросхем мирового уровня понадобится развернуть производство множества типов машин. Российские учёные обладают многими компетенциями для их создания. В частности, для разработки одного из важнейших типов таких машин – фотолитографа – у специалистов НИИ физики микроструктур РАН из Нижнего Новгорода есть богатый опыт создания EUV-системы в компании ASML.
«Эти люди сейчас в России и заняты разработкой не точь-в-точь, но по классу очень похожих машин, – говорит Евгений Горнев. – 13 лет назад НИИМЭ был идеологом создания на нижегородской земле отечественного рентгеновского литографа. Если всё получится, лет через 10 (не 30, как это было у ASML) у нас может появиться своя прогрессивная рабочая технология. Причем наши специалисты предполагают, что их машина будет работать на меньшей длине волны – 11,2 нанометров».
Как сообщили сами разработчики, российский EUV-литограф может быть создан на более простом, чем у ASML, источнике излучения – ксеноне (у ASML – олово). Ученые также обещают, что помимо меньшей длины волны, которая положительно влияет на разрешение, он будет меньше загрязнять поверхность механизма и меньше потреблять энергии. В целом, с учётом всех составляющих, он будет не таким дорогим в производстве, как у нидерландской компании.